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contents
現像・エッチング装置
Opticoat
AD-1200

チャンバー

ステンレス製 回転数 0〜3,000rpm

基板サイズ

φ1インチ〜φ6インチ
(150×150o)
インターロック 真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーラン
リミッター

薬液圧送

内蔵ポンプ使用

薬液吐出

スプレー吐出
(スイングノズル式)
電源 AC100V 4A
寸法(o) 
ドア開放時
550W×440H×400D
740H

ステップ数

96ステップ
スキップ・コピー機能付き
プログラムモード 10モード 重量 33s
プロセス(標準) 現像液:1系統
リンス:1系統
バックリンス:1系統
主要オプション 薬液温度管理システム
(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台
使用薬液 アルカリ系現像液
※仕様は予告なく変更する事がございます。

【ディップ現像とスプレー現像の比較】

 

ディップ 3μm

スプレー 3μm

現像装置 SEM画像 ディップ3μm.

現像装置 SEM画像 スプレー3μm.
主な装置及び材料
@レジスト AZ P4620
A現像液 AZ 400K
Bスピンコーター MS-A150
C露光装置 MA-20
D現像装置 AD-1200
プロセス条件
@基板

φ4インチ シリコンウエハ

Aプライマリー処理 HMDS
B膜厚 >6μm
Cプリベーク 100℃ 90sec
Dスプレー現像 60sec
※ポストベーク無し
AD-3000

チャンバー

ステンレス製 回転数 0〜3,000rpm

基板サイズ

φ1インチ〜φ12インチ
(220×220o)
インターロック 真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーラン
リミッター

薬液圧送

加圧タンク圧送式

薬液吐出

スプレー吐出
(スイングノズル式)
電源 AC200V 3相 15A
寸法(o) 
ドア開放時
720W×500H×520D
910H

ステップ数

48ステップ
スキップ・コピー機能付き
プログラムモード 10モード 重量 60s
プロセス(標準) 現像液:1系統(2ノズル)
リンス:1系統(2ノズル)
バックリンス:1系統
主要オプション 薬液温度管理システム
(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台
使用薬液 アルカリ系現像液
※仕様は予告なく変更する事がございます。
ED-1200

チャンバー

PVC(塩ビ)製 回転数 0〜3,000rpm

基板サイズ

φ1インチ〜φ6インチ
(150×150o)
インターロック 真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーラン
リミッター

薬液圧送

内蔵ポンプ使用

薬液吐出

スプレー吐出
(スイングノズル式)
電源 AC100V 4A
寸法(o) 
ドア開放時
550W×440H×400D
740H

ステップ数

96ステップ
スキップ・コピー機能付き
プログラムモード 10モード 重量 33s
プロセス(標準) 現像液:1系統
リンス:1系統
バックリンス:1系統
主要オプション 薬液温度管理システム
(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台
使用薬液 酸系エッチング液
※仕様は予告なく変更する事がございます。
ED-3000

チャンバー

PVC(塩ビ)製 回転数 0〜3,000rpm

基板サイズ

φ1インチ〜φ12インチ
(220×220o)
インターロック 真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーラン
リミッター

薬液圧送

加圧タンク圧送式

薬液吐出

スプレー吐出
(スイングノズル式)
電源 AC200V 3相 15A
寸法(o) 
ドア開放時
720W×500H×520D
910H

ステップ数

48ステップ
スキップ・コピー機能付き
プログラムモード 10モード 重量 60s
プロセス(標準) エッチング液:1系統(2ノズル)
リンス:1系統(2ノズル)
バックリンス:1系統
主要オプション 薬液温度管理システム
(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台
使用薬液 酸系エッチング液
※仕様は予告なく変更する事がございます。
     
 
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