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公司簡介
對準曝光機
  MA-10
MA-20
MA-60F
M-1S
M-2LF
旋轉塗佈機
  MS-A100
MS-A150
MS-A200
MS-A200(密閉型)
顯影刻蝕装置
  AD-1200
ED-1200
contents
對準曝光機 - MaskAligner -
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■ 特點


手動操作、接觸式對準曝光機。
依照不同需求以及成本考量・有準直儀型・多面鏡型・整合(積算器)型三種曝光光源。
有可對應5×5mm~100×100mm以及1 inch~6 inch的基板的各類機種。
Mask Holder・載台的更換作業簡單易行,可在1分鐘内完成,適合用於研究開發。
對準顯微鏡的對物鏡可對應高對準精度或厚膜等用途,並且有4×、10×、20×三種。

■ 共通規格

接觸方法

軟性接觸/ 硬性接觸 (部分選配)

對準精度

使用對物鏡20×時<1.2μm(M-1S除外)

對準顯微鏡

雙視野顯微鏡 對物鏡間隔18~60mm
(M-1S除外)

曝光波長

多頻率(h.i.g線)

MA系列 
半自動 用於少量生產的用途  MA-10 低成本 標準型
MA-10 低成本 標準型 規格

基板尺寸         

MAX4 inch

Mask尺寸

MAX 5×5 inch

UV燈箱

準直儀型

照度

>8mW/cm2

照度均一性

<±8.5%

硬性接觸

對準點間隔測長功能

不可裝配

UV燈累計光量計

不可裝配

防震台   

選配

外形尺寸(mm)

700W×570H×650D


MA-20 高解析度 高規格型
MA-20 高解析度 高規格型 規格
基板尺寸         

MAX4 inch

Mask尺寸

MAX 5×5 inch

UV燈箱

多面鏡型

照度

>14mW/cm2

照度均一性

<±4.0%

硬性接觸

對準點間隔測長功能

UV燈累計光量計

防震台   

配件

外形尺寸(mm)

1000W×1300H×800D
(包含防震台尺寸)



線寬

1μm  L&S

光刻劑

OFPR-800LB(東京應化製)

膜厚

1μm 

 

MA-60F 高解析度・φ6inch 高規格
MA-60F 高解析度・φ6inch 高規格 規格
基板尺寸         

MAX6 inch

Mask尺寸

MAX 7×7 inch

UV燈箱

整合型

照度

>18mW/cm2

照度均一性

<±5.0%

硬性接觸

對準點間隔測長功能

UV燈累計光量計

防震台   

配件

外形尺寸(mm)

1130W×1650H×800D
(包含防震台尺寸)


M系列  全手動型・研究開發用 M-1S 
低成本型
M-1S 低成本型 規格
顯微鏡

雙眼實體顯微鏡

基板尺寸         

MAX3 inch

Mask尺寸

MAX 4×4 inch

UV燈箱

準直儀型

照度

>8mW/cm2

照度均一性

<±8.5%

硬性接觸

選配

對準點間隔測長功能

不可裝配

UV燈累計光量計

不可裝配

防震台   

選配

外形尺寸(mm)

800W×730H×500D


M-2LF  高規格型
M-2LF  高規格型 規格
基板尺寸

MAX6 inch

Mask尺寸

MAX 7×7 inch

UV燈箱

整合型

照度

>18mW/cm2

照度均一性

<±5.0%

硬性接觸

選配

對準點間隔測長功能

不可裝配

UV燈累計光量計

不可裝配

防震台   

配件

外形尺寸(mm)

1000W×1685H×800D
(包含防震台尺寸)


     
 
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