日本語   Home 問題諮詢 公司簡介 對準曝光機   MA-10B MA-20 MA-60F M-1S M-2LF 旋轉塗佈機   MS-B100 MS-B150 MS-B200 MS-B300 MS-B200(密閉型) MS-B300(密閉型) 顯影刻蝕装置   AD-1200 AD-3000 ED-1200 ED-3000 顯影刻蝕装置 - Developer・EtchingSystem - 規格 ■ 可用程式選擇SPRAY顯影‧PADDLE顯影 ■ 基板尺寸 φ1 inch~φ6 inch 或 150×150 ㎜ ■ 最大可以擴張到3藥液 ■ 使用液晶觸控式螢幕可輸入96個階段‧10種模式 ■ 連續處理藥液、清洗、甩乾 ■ 內建藥液壓送幫浦 ■ 外形尺寸(mm) 550W × 440H × 400D 蓋子打開時740H 規格 ■ 可用程式選擇SPRAY顯影‧PADDLE顯影 ■ 基板尺寸φ1 inch~φ12 inch 或 220×220 ㎜ ■ 最大可以擴張到3藥液 ■ 使用液晶觸控式螢幕可輸入48個階段‧10種模式 ■ 連續處理藥液、清洗、甩乾 ■ 內建藥液壓送幫浦 ■ 外形尺寸(mm) 720W × 500H × 520D 蓋子打開時910H 規格 ■ 基板尺寸 φ1 inch~φ6 inch 或 150×150 ㎜ ■ 最大可以擴張到3藥液 ■ 考量到耐藥性，接液部使用PVC材質 ■ 使用液晶觸控式螢幕可輸入96個階段‧10種模式 ■ 連續處理刻蝕、清洗、甩乾 ■ 內建藥液壓送幫浦 ■ 外形尺寸(mm) 550W × 440H × 400D 蓋子打開時740H 規格 ■ 基板尺寸 φ1 inch~φ12 inch 或 220×220 ㎜ ■ 最大可以擴張到3藥液 ■ 考量到耐藥性，接液部使用PVC材質 ■ 使用液晶觸控式螢幕可輸入48個階段‧10種模式 ■ 連續處理刻蝕、清洗、甩乾 ■ 內建藥液壓送幫浦 ■ 外形尺寸(mm) 720W × 500H × 520D 蓋子打開時910H         TOP © MIKASA CO., LTD 2011