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SEMICONDUCTOR EQUIPMENTS
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對準曝光機
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旋轉塗佈機
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MS-A200
MS-A200(密閉型)
顯影刻蝕装置
  AD-1200
ED-1200
contents
顯影刻蝕装置 - Developer・EtchingSystem -
Opticoat
AD-1200 SPRAY顯影・PADDLE
顯影
AD-1200 顯影刻蝕装置 規格
可用程式選擇SPRAY顯影‧PADDLE顯影
基板尺寸 1 inch~6 inch
最大可以擴張到3藥液
使用液晶觸控式螢幕可輸入96個階段‧10種模式
連續處理藥液、清洗、甩乾
內建藥液壓送幫浦
外形尺寸(mm) 550W × 440H × 400D 蓋子打開時740H

ED-1200 SPRAY刻蝕裝置
ED-1200 顯影刻蝕装置 規格
基板尺寸 1 inch~6 inch
最大可以擴張到3藥液
考量到耐藥性,接液部使用PVC材質
使用液晶觸控式螢幕可輸入96個階段‧10種模式
連續處理刻蝕、清洗、甩乾
內建藥液壓送幫浦
外形尺寸(mm) 550W × 440H × 400D 蓋子打開時740H


     
 
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